Powlekacze zanurzeniowe LP100dip/LP170dip

Zaawansowane urządzenie służące do powlekania zanurzeniowego (ang. dip coating) z ruchomym ramieniem do mocowania zanurzanego przedmiotu. Urządzenie wyposażone w dwuszczękowy, regulowany chwytak oraz regulowany stolik. Aparat może być sterowany z panelu lub oprogramowania LP-control.

Powlekanie zanurzeniowe to precyzyjnie kontrolowane zanurzanie i pobieranie określonej substancji ze zbiornika cieczy w celu osadzenia warstwy na powierzchni materiału. Technika powlekania zanurzeniowego jest stosowana zarówno do wytwarzania cienkich warstw przez samoorganizację jak i coraz częściej do prac opartych o technikę zol-żel. Poprzez samoorganizację można uzyskać grubości folii odpowiadającą jednej monowarstwie. Technika zol-żel tworzy warstwy o zwiększonej, kontrolowanej grubości, określoną głównie przez szybkość osadzania i lepkość roztworu. Technika powlekania zanurzeniowego może dawać jednolite, wysokiej jakości powłoki nawet na dużych, skomplikowanych kształtach.

Na stan i jakość cienkiej warstwy uzyskanej poprzez powlekanie zanurzeniowe wpływa wiele czynników. Kontrolując funkcjonalizację początkowej powierzchni podłoża, czas zanurzenia, szybkość wycofywania, liczbę cykli zanurzania, skład roztworu, stężenie i temperaturę, liczbę roztworów (możliwe zastosowanie obrotowego stolika dedykowanego do urządzenia) można otrzymać szeroką gamę powtarzalnych powłok o określonych grubościach warstw.

Urządzenie do powlekania zanurzeniowego Kamush LP100Dip umożliwia sterowanie programami funkcji osadzania substancji na powierzchni poprzez ustawiania górnych i dolnych pozycji spoczynkowych powlekanego materiału, szybkości zanurzenia, czasu zanurzenia, szybkości wycofywania, czasu suszenia oraz liczby cykli zanurzenia i sekwencji rotacji dozownika z roztworami powlekającymi.

Sterowanie silnikiem krokowym ramienia zanurzeniowego zapewnia płynny (nawet bardzo powolny) ruch liniowy przy wszystkich prędkościach zanurzania. Dostępne są różne zakresy prędkości, przy czym najwolniejsza możliwa prędkość wynosi 1 mm na minutę. Najszybszy posuw pozwala na prędkość nawet do 200 mm na minutę. Jeśli wymagane jest osadzanie pod kątem innym niż ortogonalny do powierzchni cieczy, dostępne jest dedykowane ramię umożliwiające pracę pod kątem do 60 stopni.

	LP100DIP	LP170DIP
Max. travel distance	100 mm	170 mm
Max. height of vessel	200 mm	200 mm
Max. vessel diameter	100 mm	100 mm
Lifting arm capacity	300 g	300 g
Lowering/lifting speed	1-200 mm/min	1-200 mm/min
Dimensions (w x d x h)	140 x 260 x 400 mm
Adjustable platform for vessel	3 kinds of diamaters	3 kinds of diamaters
Power	24 V (power supply 230 V)	24 V (power supply 230 V)